产品介绍

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HZWS2000℃研究用真空钨丝炉

HZWS2000℃研究用真空钨丝炉

一、特点

适用于无机材料的成形烧结,原料反应烧结的制备。同时也适用于金属材料的粉未冶金烧结,还适用于表面喷涂复合材料的高温烧结处理。此真空炉为高校,科研机构专用真空炉,根据原材料的不同,可以选用不同的加热体,可以选择石墨,钼屏,钨屏,金属钽等。

真空钨丝炉主要由炉体系统、电控系统、真空系统(真空系统包括真空泵、真空阀、真空管路、波纹管等)、变压器及联接铜排、发热元件及隔热屏、温控系统等组成。

采用立式炉体,分炉盖、炉体、炉底、加热元件、金属反射屏、真空系统及电控系统等部分。炉体外形美观真空热压炉,发热元件采用三相钨网加热,新型结构使用寿命长,发热体变形小,还特别节能。

二、主要技术参数:

产品型号 加热元件材质 设备形式 取料方式 有效工作区
(mm)
最高加热
温度(℃)
常用工作
温度(℃)
加热功率
(KW)
冷态
极限真空度(Pa)
VVSw-18-2000 钨丝 立式 上取料 Φ60×80 2000 1800 18 6.67*10-3
VVSw-30-2000 钨丝 立式 上取料 Φ100×120 2000 1800 30 6.67*10-3
VVSw-45-2000 钨丝 立式 下取料 Φ150×150 2000 1800 45 6.67*10-3
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